弁理士・弁護士一覧

岩見 晶啓

パートナー 弁理士 (機械・電気) / 博士号所持者

亀山 育也(かめやま いくや)

特定侵害訴訟代理業務付記

プロフィール

大学在学中から、人工衛星や惑星探査機などで使用されるイオンロケットエンジンの研究として、放電プラズマ装置の設計・運転・メンテナンスの研究開発に従事。磁場計算、プラズマ流体計算、イオン軌道計算、化学反応モデル計算などを通じ、有限要素法解析、差分法解析、分子動力学法に精通。 東京大学修士課程在学中に米国に留学し、イオンロケットエンジンのホローカソード電子源の長寿命化の研究で修士号、博士号(Ph.D.)を取得するとともに、イオン引き出しグリッドの性能予測計算プログラムの開発を行う。
学位取得後は、科学技術振興事業団科学技術特別研究員として、旧工業技術院電子技術総合研究所(現産業技術総合研究所)に勤務し、材料加工用ECRプラズマ源の性能評価、2光子イオン化技術を利用したレーザスパッタリングによるスパッタ粒子の時間飛行法質量分析技術の開発などに従事。 その後、米国現地企業であるIon Tech, Inc.に研究開発技術者として就職し、それまでの経験を生かした光学薄膜成膜用イオンビームスパッタリング装置の開発、レーザを用いたIn-situ光学薄膜モニタの開発、大型イオン装置の開発などを行う。この間、製造装置の生産技術の確立、製造部門への技術移転などの作業を行う傍ら、お客様の相談対応によるニーズの把握、製品納品時の研修立会いなど、お客様とのコミュニケーションの養成の現場、新人教育などにも従事。
米国滞在中に、企業経営についての知識に習熟するため中小企業診断士の資格を取得。また、研究開発者として自ら発明を行い、雇用先の権利取得に貢献する傍ら、弁理士資格を取得して、知的財産保護と意欲的な研究開発の雰囲気作りを経験。

帰国後は、米国滞在中の発明者の立場からの特許権取得に係る実務経験、語学力を生かし、現在所属の(業)浅村特許事務所にて、外内・内外特許出願業務に従事。所内の判例研究会の1メンバーとして、審査対応のみならず権利行使に係る判例の研究を行うとともに、権利行使に係る無効調査業務などを経験。

学歴
1990年3月 東京大学工学部航空学科宇宙工学専修コース卒業
1994年3月 東京大学大学院工学系研究科航空学専修修士課程修了
1994年12月 米国Colorado State Univeristy修士課程修了
1997年12月 米国Colorado State Univeristy博士課程修了
職歴
1997年9月~1999年7月 社団法人科学技術振興事業団(現科学技術振興機構)科学技術特別研究員、通商産業省電子技術総合研究所(現産業技術総合研究所)極限技術部勤務
1999年7月~2010年11月 米国Veeco Instruments, Inc.(旧 Ion Tech, Inc.)
試験合格
2009年11月 弁理士試験合格(弁理士登録:2010年12月)
2012年12月 特定侵害訴訟業務代理試験合格(2013年2月付記登録)
登録番号
弁理士登録番号:17284
所属
機械電気部
言語
日本語、英語(TOEIC LR 975点(2012年5月)、SW 340点(2013年2月))
担当案件
プラズマプロセス装置、質量分析装置、電子顕微鏡、画像解析、光学機器、半導体デバイス、半導体発光機器、ネットワーク機器、2次電池材、磁場計算、プラズマ流体計算、イオン軌道計算、化学反応モデル計算、有限要素法解析、差分法解析、分子動力学法
資格
1981年 初級電話級アマチュア無線技士
1986年 第二種情報処理技術者
1987年 普通自動車第一種運転免許
1988年 第三種電気主任技術者(電験三種)
2006年 中小企業診断士(2011年2月登録休止)
日本
弁理士会・
他 会員
2010年~現在 日本弁理士会
1989年~現在 日本航空宇宙学会
1990年~現在 日本機械学会
1992年~現在 米国AIAA (American Institute of Aeronautics and Astonautics)
1997年~現在 米国IEEE (Institute of Electrical and Elcetronics Engineers)
1998年~現在 米国MRS (Materials Research Society)
2013年~現在 米国AIPLA (American Intellectual Property Law Association)
著書
[科学技術論文]

”Measurement of Ions from High-Current Hollow Cathodes using an Electrostatic Energy Analyzer,” Journal of Propulsion and Power, Vol. 16, No. 3, 2000, pp. 529-535 (共著)

“Application of High Purity Ozone Beam to Charge Compensation in Surface Analysis by AES/XPS,” Journal of Surface Analysis, Vol. 5, 1999, pp. 154-157. (共著)

“Design and Characterization of Ion Beam Deposited Gain Flattening Filters,” Society of Vacuum Coaters 45th Annual Technical Conference Proceedings, 2002. (共著)
趣味
パソコン、ビリヤード、ウィスキー(スコッチ、シングルモルト) (アメリカ在住暦通算17年)
コメント
イオンビーム装置とスパッタリングを2本の柱として、これらにかかわるさまざまな分野の技術を経験してきましたが、数学、物理学に強く、未経験の周辺分野の技術についても迅速に対応できる自信があります。
大学在籍以来、「自らの仕事のマネジメントは自分で積極的に行う」という環境にあったため、マネジメント、特に、プロジェクト管理を中心とした、技術面での企業経営にもそれなりの経験をつんできたつもりです。
知財業務については、自ら発明者の側に立って特許出願手続に関与し、米国、ヨーロッパ、日本の特許保護の違いなどに触れる機会に恵まれ、内外、外内案件での、発明者、出願人、さまざまな国の代理人、それぞれの立場の違いを考慮しつつ、現状を解説し、最善策を講じるよう、緊密なコミュニケーションを行うよう、心がけています。
技術の理解力、マネジメントマインド、知的財産権保護(海外対応含む)の3つに対応する必要がある案件で、お役にたてるものと確信しています。
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